1.

国際会議録
国際会議録
1. Extra Low-Temperature SiO2 Deposition Using Aminosilanes
I. Suzuki ; C. Dussarrat ; K. Yanagita
出版情報: Atomic layer deposition applications 2.  pp.119-128,  2007.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(15)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Evaluation of Trisilylamine for HfSiO x Atomic Layer Deposition
C. Dussarrat ; I. Suzuki ; K. Yanagita
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics 4.  pp.441-448,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(3)