1.

国際会議録
国際会議録
1. Mist Deposition for TFT Technology
K. Shanmugasundaram ; S. Price ; K. Chang ; D. Lee ; J. Ruzyllo
出版情報: Thin Film Transistor Technology 8.  pp.255-259,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(8)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Interactions of Sapphire Surfaces with Standard Cleaning Solutions
K.W. Kirby ; K. Shanmugasundaram ; V. Bojan ; J. Ruzyllo
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.343-349,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Mist Deposition of Organic Semiconductors for Light Emitting Diodes
K. Shanmugasundaram ; S. Price ; W. Li ; H. Jiang ; Q. Wang
出版情報: Organic Semiconductor Materials and Devices.  pp.73-79,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(25)
4.

国際会議録
国際会議録
4. Formation of Ultra-Thin Quantum Dot Films by Mist Deposition
S.C. Price ; K. Shanmugasundaram ; T. Zhu ; F. Zhang ; J. Xu
出版情報: Nanoscale One-Dimensional Electronic and Photonic Devices (NODEPD).  pp.89-94,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(8)
5.

国際会議録
国際会議録
5. EFFECT OF SILICON SURFACE CONDITION ON FILM FORMATION USING MIST DEPOSITION
K. Shanmugasundaram ; K. Chang ; J. Ruzyllo
出版情報: Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX.  pp.105-110,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(3)
6.

国際会議録
国際会議録
6. SURFACE ROUGHNESS IN SILICON CARBIDE TECHNOLOGY
K. Chang ; T. Witt ; A. Hoff ; R. Woodin ; R. Ridley ; G. Dolny ; K. Shanmugasundaram ; E. Oborina ; J. Ruzyllo
出版情報: Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX.  pp.228-233,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(3)