1.

国際会議録
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1. Feature biasing versus feature-assisted lithography: a comparison of proximity correction methods for 0.5∗(λ/NA) lithography
R. Pforr ; A.K. Wang ; K. Ronse ; L. Van den Hove ; A. Yen
出版情報: Optical/laser microlithography VIII : 22-24 February, 1995, Santa Clara, California.  pp.150-170,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2440
2.

国際会議録
国際会議録
2. Full field EUV lithography turning into a reality at IMEC
R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; A. M. Goethals ; J. Hermans ; B. Baudemprez ; A. Myers ; I. Kim ; A. Niroomand ; F. Iwamoto ; N. Stepanenko ; K. Ronse
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
3.

国際会議録
国際会議録
3. Assessment of EUV reticle blank availability enabling the use of EUV tools today and in the future
R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; A. Goethals ; K. Ronse ; J. Hermans ; R. D. Ruyter
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
4.

国際会議録
国際会議録
4. EUV lithography program at IMEC
A. M. Goethals ; R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; J. Hermans ; F. V. Roey ; A. Myers ; M. Chandhok ; I. Kim ; A. Niroomand ; F. Iwamoto ; N. Stepanenko ; R. Gronheid ; B. Baudemprez ; K. Ronse
出版情報: Emerging lithographic technologies XI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6517
5.

国際会議録
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5. EUV lithography with the Alpha Demo Tools: status and challenges
N. Harned ; M. Goethals ; R. Groeneveld ; P. Kuerz ; M. Lowisch ; H. Meijer ; H. Meiling ; K. Ronse ; J. Ryan ; M. Tittnich ; H. Voorma ; J. Zimmerman ; U. Mickan ; S. Lok
出版情報: Emerging lithographic technologies XI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6517
6.

国際会議録
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6. Investigation of mask defectivity in full field EUV lithography
R. Jonckheere ; F. Iwamoto ; G. F. Lorusso ; A. M. Goethals ; K. Ronse
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.673012-1-673012-12,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730