1.

国際会議録
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1. Transient Currents Induced in 6H-SiC MOS Capacitors by Oxygen Ion Incidence
N. Iwamoto ; S. Onoda ; T. Ohshima ; K. Kojima ; K. Kawano
出版情報: Silicon carbide and related materials 2008 : selected peer reviewed papers from the 7th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials, September 7-11 Barcelona, Spain.  pp.517-520,  2009.  Aedermannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 615-617
2.

国際会議録
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2. Seed Layer Free Ruthenium Precursor for MOCVD
N. Oshima ; T. Shibutami ; K. Kawano ; S. Yokoyama ; H. Funakubo
出版情報: Physicas and technology of high-k gate dielectrics : proceedings of the International Symposium on High Dielectric Constant Materials : Materials Science, Processing, and Reliability, and Manufacturing Issues.  pp.277-286,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-28
3.

国際会議録
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3. A Novel Iridium Precursor for MOCVD
K. Kawano ; T. Furakawa ; M. Takamori ; K. Tada ; T. Yamakawa ; N. Oshima ; H. Fujisawa ; M. Shimizu
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics III.  pp.133-138,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(5)
4.

国際会議録
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4. Ruthenium and Ruthenium Oxide Films Deposition by MOCVD Using Ru(DMPD)₂
K. Kawano ; H. Kosuge ; N. Oshima ; H. Funakubo
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics III.  pp.139-144,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(5)
5.

国際会議録
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5. Lithographic performance of SiNx single-layer halftone mask
K. Kawano ; M. Asano ; S. Tanaka ; T. Iwamatsu ; H. Sato
出版情報: Photomask and X-ray mask technology II : 20-21 April 1995, Kawasaki City, Kanagawa, Japan.  pp.348-355,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2512
6.

国際会議録
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6. A novel lithography design and verification methodology with patterning failure
S. Miyoshi ; Y. Kobayashi ; S. Tanaka ; K. Kawano ; K. Hashimoto
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.714011-1-714011-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
7.

国際会議録
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7. A study of mask specification in spacer patterning technology
H. Mukai ; Y. Kobayashi ; S. Yamaguchi ; K. Kawano ; K. Hashimoto
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  1  pp.702812-1-702812-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
8.

国際会議録
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8. Infrared sensor module using uncooled 320 x 240/640 x 480 detector
K. Egashira ; T. Yamamoto ; K. Kawano ; Y. Tanaka ; K. Iida ; T. Fujishima ; T. Kakimoto ; N. Oda
出版情報: Infrared technology and applications XXXIII : 9-13 April 2007, Orlando, Florida, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6542