1.

国際会議録
国際会議録
1. Mask characterization for double patterning lithography
K. Bubke ; E. Cotte ; J. H. Peters ; R. de Kruif ; M. Dusa
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.67301H-1-67301H-10,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730
2.

国際会議録
国際会議録
2. Wafer based mask characterization for double patterning lithography
R. de Kruif ; K. Bubke ; G.-J. Janssen ; E. van der Heijden ; J. Fochler
出版情報: EMLC 2008 : 24th European Mask and Lithography Conference : 21-24 January 2008, Dresden, Germany.  pp.679204-1-679204-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6792