1.

国際会議録
国際会議録
1. System considerations for maskless lithography
Karnowski, T. ; Joy, D. ; Allard, L. ; Clonts, L.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.1080-1091,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
2.

国際会議録
国際会議録
2. Tools to measure CD-SEM performance [6152-29]
Kim, J. ; Jalhadi, K. ; Deo, S. ; Lee, S. Y. ; Joy, D.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61520T-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152