1.

国際会議録

国際会議録
Jonckheere,R.M.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.264-271,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
2.

国際会議録

国際会議録
Vandenberghe,G.N. ; Jaenen,P. ; Jonckheere,R.M. ; Ronse,K. ; Toublan,O.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  4409  pp.61-69,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
3.

国際会議録

国際会議録
Verhaegen,S. ; Gordon,R.L. ; Jonckheere,R.M. ; McCallum,M. ; Ronse,K.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.368-378,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
4.

国際会議録

国際会議録
Jonckheere,R.M. ; Vandenberghe,G.N. ; Wiaux,V. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  4409  pp.108-117,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
5.

国際会議録

国際会議録
Lucas,K.D. ; Word,J.C. ; Vandenberghe,G.N. ; Verhaegen,S. ; Jonckheere,R.M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.119-130,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346