1.

国際会議録
国際会議録
1. Recent developments in spectroscopic ellipsometry for in-situ applications
Johs,B.D. ; Hale,J. ; Ianno,N.J. ; Herzinger,C.M. ; Tiwald,T.E. ; Woollam,J.A.
出版情報: Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries II : 2-3 August 2001 San Diego, USA.  pp.41-57,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4449
2.

国際会議録
国際会議録
2. Epitaxial growth-of HgCdTe 1.55-ｦﾌm avalanche photodiodes by molecular beam epitaxy
Lyon,T.J.de ; Baumgratz,B. ; Chapman,G.R. ; Gordon,E. ; Hunter,A.T. ; Jack,M.D. ; Jensen,J.E. ; Johnson,W. ; Johs,B.D. ; Kosai,K. ; Larsen,W. ; Olson,G.L. ; Sen,M. ; Walker,B.
出版情報: Photodetectors : materials and devices IV : 27-29 January 1999, San Jose, California.  pp.256-267,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3629
3.

国際会議録
国際会議録
3. Real-time monitoring and control during MBE growth of GaAs/AIGaAs Bragg reflectors using multiwave ellipsometry
Wagner,T. ; Johs,B.D. ; Herzinger,C.M. ; He,P. ; Pittal,S. ; Woollam,J.A.
出版情報: Polarimetry and ellipsometry : 20-23 May, 1996, Kazimierz Dolny, Poland.  pp.301-307,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3094
4.

国際会議録
国際会議録
4. Application of generalized ellipsometry to complex optical systems
Schubert,M. ; Rheinlander,B. ; Woollam,J.A. ; Johs,B.D. ; Herzinger,C.M.
出版情報: Polarimetry and ellipsometry : 20-23 May, 1996, Kazimierz Dolny, Poland.  pp.255-265,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3094
5.

国際会議録
国際会議録
5. Optical characterization of polycrystalline silicon thin films
McGahan,W.A. ; Spady,B.R. ; Johs,B.D. ; Laparra,O.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X.  pp.450-459,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2725