1.

国際会議録
国際会議録
1. Effect of pH on Chemical-Mechanical Polishing of Copper and Tantalum
Jindal, Anurag ; Li, Ying ; Babu, S.V.
出版情報: Chemical-mechanical polishing 2001 -- advances and future challenges : symposium held April 18-20, 2001, San Francisco, California, U.S.A..  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 671
2.

国際会議録
国際会議録
2. Slurry Retention and Transport During Chemical-Mechanical Polishing of Copper
Jindal, Anurag ; Li, Ying ; Narayanan, Satish ; Bobu, S.V.
出版情報: Chemical-mechanical polishing 2001 -- advances and future challenges : symposium held April 18-20, 2001, San Francisco, California, U.S.A..  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 671
3.

国際会議録
国際会議録
3. Structural Characteristics and Flow Behavior in Low Aspect Ratio Packed Beds
Govindarao, V.M.H. ; Jindal, Anurag
出版情報: AIChE 1999 ANNUAL MEETING.  1999.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1999
4.

国際会議録
国際会議録
4. Study of Slurry Composition Transition in a Rotary Copper CMP Process
Hegde, Sharath ; Patri, Udaya B. ; Jindal, Anurag ; Babu, S. V.
出版情報: Chemical-mechanical planarization : symposium held April 22-24, 2003, San Francisco, California, U.S.A..  pp.27-32,  2003.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 767