1.

国際会議録
国際会議録
1. Defects analysis of mask blanks
Lee,D.H. ; Kim,D.W. ; Lee,J.K. ; Jeong,W.G. ; Choi,S.-S. ; Jung,S.-M. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.571-576,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
2.

国際会議録
国際会議録
2. Evaluation of reticle cleaning performance with different drying methods for high-grade photomasks
Jeong,W.G. ; Lee,S.W. ; Kim,D.H. ; Yoon,Y.J. ; Lee,D.H. ; Choi,B.Y. ; Choi,S.-S. ; Jung,S.M. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.99-110,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562