1.

国際会議録
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1. Dry etching technology of Cr and MoSi layers using high-density plasma source
Kwon,H.-J. ; Oh,K.-S. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Park,K.-H. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.532-539,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
2.

国際会議録
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2. Dry etching of Cr layer and its loading effect
Kwon,H.-J. ; Min,D.-S. ; Jang,P.-J. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Park,K.-H. ; Jeong,S.-H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.382-389,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
3.

国際会議録
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3. Defects analysis of mask blanks
Lee,D.H. ; Kim,D.W. ; Lee,J.K. ; Jeong,W.G. ; Choi,S.-S. ; Jung,S.-M. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.571-576,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
4.

国際会議録
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4. Dry etching characteristics of attenuated phase-shifting masks using Cl2/CF4/O2/He plasmas
Choi,S.J. ; Cha,H.-S. ; Yoon,S.-Y. ; Jung,S.-M. ; Choi,S.-S. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.561-570,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
5.

国際会議録
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5. Application of MICP source for next-generation photomask process
Kwon,H.-J. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Park,K.-H. ; Jeong,S.-H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.218-225,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
6.

国際会議録
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6. ArF halftone PSM cleaning process optimization for next-generation lithography
Son,Y.-S. ; Jeong,S.-H. ; Kim,J.-B. ; Kim,H.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.416-423,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
7.

国際会議録
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7. Loading effect parameters of dry etcher system and their analysis in mask-to-mask loading and within-mask loading
Kwon,H.-J. ; Min,D.-S. ; Jang,P.-J. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.79-87,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
8.

国際会議録
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8. Evaluation of reticle cleaning performance with different drying methods for high-grade photomasks
Jeong,W.G. ; Lee,S.W. ; Kim,D.H. ; Yoon,Y.J. ; Lee,D.H. ; Choi,B.Y. ; Choi,S.-S. ; Jung,S.M. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.99-110,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
9.

国際会議録
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9. Evaluation of various alternating phase shifting mask processes for KrF lithography
Yoon,S.-Y. ; Cha,H.-S. ; Choi,S.-J. ; Jung,S.-M. ; Choi,S.-S. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.1017-1025,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
10.

国際会議録
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10. Optimization of alternating phase shifting mask structure
Cha,H.-S. ; Choi,S.-J. ; Yoon,S.-Y. ; Jung,S.-M. ; Choi,S.-S. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.1008-1016,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562