1.

国際会議録
国際会議録
1. Extraction of exposure parameters by using neural networks
Jeon, K.-A. ; Kim, H.-H. ; Yoo, J.-Y. ; Park, J.-T. ; Oh, H.-K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.1105-1114,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039
2.

国際会議録
国際会議録
2. Resist develop prediction by Monte Carlo simulation
Sohn, D.-S. ; Jeon, K.-A. ; Sohn, Y.-S. ; Oh, H.-K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part Two  pp.971-977,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690