1.

国際会議録
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1. Three-dimensional mask effects and source polarization impact on OPC model accuracy and process window
M. Saied ; F. Foussadier ; J. Belledent ; Y. Trouiller ; I. Schanen ; C. Gardin ; J. C. Urbani ; P. K. Montgomery ; F. Sundermann ; F. Robert ; C. Couderc ; F. Vautrin ; G. Kerrien ; J. Planchot ; E. Yesilada ; C. Martinelli ; B. Wilkinson ; A. Borjon ; L. Le-Cam ; J. L. Di-Maria ; Y. Rody ; N. Morgana ; V. Farys
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
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2. 32-nm SOC printing with double patterning, regular design, and 1.2 NA immersion scanner
Y. Trouiller ; V. Farys ; A. Borjon ; J. Belledent ; C. Couderc ; F. Sundermann ; J. Urbani ; Y. Rody ; C. Gardin ; J. Planchot ; W. Conley ; P. Goirand ; S. Warrick ; F. Robert ; G. Kerrien ; F. Vautrin ; B. Wilkinson ; M. Saied ; E. Yesilada ; P. Montgomery ; L. L. Cam ; C. Martinelli
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
3.

国際会議録
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3. Extending immersion lithography to the 32-nm node
S. Warrick ; W. Conley ; V. Farys ; M. Benndorf ; J. Gemmink ; Y. Trouiller ; J. Belledent ; D. Jovanovic ; P. Gouraud
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
4.

国際会議録
国際会議録
4. Characterization of inverse SRAF for active layer trenches on 45-nm node
J. -C. Urbani ; J. -D. Chapon ; J. Belledent ; A. Borjon ; C. Couderc ; J. -L. Di-Maria ; V. Farys ; F. Foussadier ; C. Gardin ; G. Kerrien ; L. LeCam ; C. Martinelli ; P. Montgomery ; N. Morgana ; J. Planchot ; F. Robert ; Y. Rody ; M. Saied ; F. Sundermann ; Y. Trouiller ; F. Vautrin ; B. Wilkinson ; E. Yesilada
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
5.

国際会議録
国際会議録
5. OPC structures for maskshops qualification for the CMOS65nm and CMOS45nm nodes
F. Sundermann ; Y. Trouiller ; J. Urbani ; C. Couderc ; J. Belledent ; A. Borjon ; F. Foussadier ; C. Gardin ; L. LeCam ; Y. Rody ; M. Saied ; E. Yesilada ; C. Martinelli ; B. Wilkinson ; F. Vautrin ; N. Morgana ; F. Robert ; P. Montgomery ; G. Kerrien ; J. Planchot ; V. Farys ; J. D. Maria
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
6.

国際会議録
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6. 3D mask modeling with oblique incidence and mask corner rounding effects for the 32nm node
M. Saied ; F. Foussadier ; J. Belledent ; Y. Trouiller ; I. Schanen
出版情報: Photomask technology 2007.  3  pp.673050-1-673050-11,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730