1.

国際会議録
国際会議録
1. Advanced photomask repair technology for 65-nm lithography: II
Itou, Y. ; Tanaka, Y. ; Yoshioka, N. ; Sugiyama, Y. ; Hagiwara, R. ; Takahashi, H. ; Takaoka, O. ; Kozakai, T. ; Matsuda, O. ; Suzuki, K. ; Okabe, M. ; Kikuchi, S. ; Uemoto, A. ; Yasaka, A. ; Adachi, T. ; Nishida, N. ; Ozawa, T.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1132-1143,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
2.

国際会議録
国際会議録
2. Advanced photomask repair technology for 65 nm lithography (4) [5992-170]
Itou, Y. ; Tanaka, Y. ; Suga, O. ; Sugiyama, Y. ; Hagiwara, R. ; Takahashi, H. ; Takaoka, O. ; Kozakai, T. ; Matsuda, O. ; Suzuki, K. ; Okabe, M. ; Kikuchi, S. ; Uemoto, A. ; Yasaka, A. ; Adachi, T.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59924Y-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
3.

国際会議録
国際会議録
3. Application of atomic force microscope to 65-nm node photomasks
Tanaka, Y. ; Itou, Y. ; Yoshioka, N. ; Matsuyama, K. ; Dawson, D.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.751-758,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
4.

国際会議録
国際会議録
4. Advanced FIB mask repair technology for 90-nm/ArF lithography: III
Tanaka, Y. ; Itou, Y. ; Yoshioka, N. ; Hagiwara, R. ; Yasaka, A. ; Takaoka, O. ; Kozakai, T. ; Koyama, Y. ; Sawaragi, H. ; Sugiyama, Y. ; Muramatsu, M. ; Doi, T. ; Suzuki, K. ; Okabe, M. ; Shinohara, M. ; Matsuda, O. ; Aita, K. ; Adachi, T. ; Morikawa, Y. ; Nishiguchi, M. ; Satoh, Y. ; Hayashi, N.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.526-537,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
5.

国際会議録
国際会議録
5. Advanced photomask repair technology for 65-nm lithography (1)
Itou, Y. ; Tanaka, Y. ; Yoshioka, N. ; Sugiyama, Y. ; Hagiwara, R. ; Takahashi, H. ; Takaoka, O. ; Tashiro, J. ; Suzuki, K. ; Okabe, M. ; Kikuchi, S. ; Uemoto, A. ; Yasaka, A. ; Adachi, T. ; Nishida, N. ; Ozawa, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.301-312,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
6.

国際会議録
国際会議録
6. Advanced photomask repair technology for 65nm lithography (3) [5853-89]
Itou, Y. ; Tanaka, Y. ; Sugiyama, Y. ; Hagiwara, R. ; Takahashi, H. ; Takaoka, O. ; Kozakai, T. ; Matsuda, O. ; Suzuki, K. ; Okabe, M. ; Kikuchi, S. ; Uemoto, A. ; Yasaka, A. ; Adachi, T. ; Nishida, N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.1000-1008,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853