1.

国際会議録
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1. Effects of polymer structure on dissolution characteristics in chemically amplified 193-nm resists
Itani, T. ; Yoshino, H. ; Takizawa, M. ; Yamana, M. ; Tanabe, H. ; Kasama, K.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.306-315,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
2.

国際会議録
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2. Ultra-Shallow Junction Formation by Low Energy Ion Implantation and Flash Lamp Annealing*
Suguro, K. ; Ito, T. ; Itani, T. ; linuma, T.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.253-262,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-6
3.

国際会議録
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3. Low-Temperature Synthesis of Plasma TEOS SiO2
Itani, T. ; Fukuyama, S.
出版情報: Amorphous and crystalline insulating thin films--1996 : symposium held December 2-4, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.255-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 446
4.

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4. Effects of O2 gas addition on diamond-like carbon film deposition
Nakamura, N. ; Itani, T. ; Chiba, H. ; Watanabe, K. ; Kurihara, K.
出版情報: Amorphous and nanostructured carbon : sympoisum held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.415-,  2000.  Warrendale, Pa..  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 593
5.

国際会議録
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5. A new monocyclic fluoropolymer for 157-nm and 193-nm photoresists
Houlihan, F. ; Sakamuri, R. ; Hamilton, K. ; Dimerli, A. ; Rentkiewicz, D. ; Romano, A. ; Dammel, R. R. ; Wei, Y. ; Stepanenko, N. ; Sebald, M. ; Hohle, C. ; Conley, W. ; Miller, D. ; Itani, T. ; Shigematsu, M. ; Kawaguchi, E.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.554-563,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
6.

国際会議録
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6. Optimization of the chromium-shielding attenuated phase shift mask for 157-nm lithography
Kurose, E. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.603-614,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
7.

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7. 157-nm lithography with high numerical aperture lens for 70-nm technology node
Suganaga, T. ; Kanda, N. ; Kim, J.-H. ; Yamabe, O. ; Watanabe, K. ; Furukawa, T. ; Miyoshi, S. ; Itani, T. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.C.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.584-593,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
8.

国際会議録
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8. Selete activity of 157-nm lithography and masks
Yoshioka, N. ; Itani, T. ; Wakamiya, W.
出版情報: 19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.220-224,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5148
9.

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9. Feasibility study of SCAAM-type Alt-PSM for 157-nm lithography
Morikawa, Y. ; Kokubo, H. ; Noguchi, K. ; Sasaki, S. ; Mohri, H. ; Hoga, M. ; Kanda, N. ; Irie, S. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1137-1145,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
10.

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10. Control of side-lobe intensity for attenuated phase-shifting mask in 157-nm lithography
Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.736-744,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130