1.

国際会議録
国際会議録
1. Vacancy Clusters at Nanoparticle Surfaces
Xu, J. ; Moxom, J. ; Somieski, B. ; White, C.W. ; Mills, A.P. ; Suzuki, R. ; Ishibashi, S. ; Ueda, A. ; Henderson, D.O.
出版情報: Positron annihilation, ICPA-12 : Proceedings of the 12th International Conference on Positron Annihilation, August 6-12, 2000, München, Germany.  pp.637-639,  2001.  Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 363-365
2.

国際会議録
国際会議録
2. Positron 2D-ACAR Study of the Quasi-One-Dimensional Organic Superconductor (TMTSF)2ClO4
Ishibashi, S. ; Manuel, A.A. ; Kohyama, M. ; Tokumoto, M. ; Anzai, H.
出版情報: Positron annihilation, ICPA-12 : Proceedings of the 12th International Conference on Positron Annihilation, August 6-12, 2000, München, Germany.  pp.552-554,  2001.  Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 363-365
3.

国際会議録
国際会議録
3. Construction of Electron-Positron Momentum Density from Pseudo-Wavefunctions with Better Accuracy
Ishibashi, S.
出版情報: Positron annihilation ICPA-13 : proceedings of the 13th International Conference on Positron Annihilation, Kyoto, Japan, September 2003.  pp.401-403,  2004.  Uetikon-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 445-446
4.

国際会議録
国際会議録
4. Effect of Discharge Frequency on the Plasma Polymerization of Ethane
Morita, S. ; Ishibashi, S. ; Shen, M. ; Bell, A. T.
出版情報: Modification of polymers.  pp.321-,  1980.  Washington, D.C..  American Chemical Society
シリーズ名: ACS symposium series
シリーズ巻号: 121
5.

国際会議録
国際会議録
5. Cyber entertainment system using an immersive networked virtual environment
Ihara, M. ; Honda, S. ; Kobayashi, M. ; Ishibashi, S.
出版情報: Stereoscopic Displays and Virtual Reality Systems IX.  pp.498-503,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4660
6.

国際会議録
国際会議録
6. Process development of 6-in EUV mask with TaBN absorber
Shoki, T. ; Hosoya, M. ; Kinoshita, T. ; Kobayashi, H. ; Usui, Y. ; Ohkubo, R. ; Ishibashi, S. ; Nagarekawa, O.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.857-864,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754