1.

国際会議録
国際会議録
1. High transmission mask technology for 45nm node imaging
Irisawa, J. ; Okazoe, T. ; Eriguchi, T. ; Yokokoji, O.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.349-354,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
国際会議録
2. Fluoropolymers for 157-nm single-layer resists developed using a new etching rate estimation model (KI-Model)
Kawaguchi, Y. ; Sasaki, T. ; Irisawa, J. ; Yokokoji, O. ; Irie, S. ; Otoguro, A. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.525-532,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
3.

国際会議録
国際会議録
3. Dry-etching resistance of fluoropolymers for 157-nm single-layer resists
Kawaguchi, Y. ; Irisawa, J. ; Kodama, S. ; Okada, S. ; Takebe, Y. ; Kaneko, I. ; Yokokoji, O. ; Ishikawa, S. ; Irie, S. ; Hagiwara, T. ; Itani, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  1  pp.43-52,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039