1.

国際会議録
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1. Mask enhancer technology for 45-nm node contact hole fabrication
Yuito, T. ; Wiaux, V. ; Look, L. Van ; Vandenberghe, G. ; Irie, S. ; Matsuo, T. ; Misaka, A. ; Watanabe, H. ; Sasago, M.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1377-1387,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Feasibility study of SCAAM-type Alt-PSM for 157-nm lithography
Morikawa, Y. ; Kokubo, H. ; Noguchi, K. ; Sasaki, S. ; Mohri, H. ; Hoga, M. ; Kanda, N. ; Irie, S. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1137-1145,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
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3. 157-nm lithography for 65-nm node SRAM-gate
Suganaga, T. ; Irie, S. ; Miyoshi, S. ; Kim, J.-H. ; Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Furukawa, T. ; Hagiwara, T. ; Ishimaru, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.261-269,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Sub-70-nm pattern fabrication using an alternating phase-shifting mask in 157-nm lithography
Irie, S. ; Kanda, N. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1654-1664,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
5.

国際会議録
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5. Feasibility study of TaSiOx-type Att-PSM for 157-nm lithography
Watanabe, K. ; Yamabe, O. ; Kanda, N. ; Kim, J. ; Uchida, N. ; Irie, S. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.444-451,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
6.

国際会議録
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6. Pattern transfer processes for 157-nm lithography
Miyoshi, S. ; Furukawa, T. ; Watanabe, H. ; Irie, S. ; Itani, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.221-232,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
7.

国際会議録
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7. Fluoropolymers for 157-nm single-layer resists developed using a new etching rate estimation model (KI-Model)
Kawaguchi, Y. ; Sasaki, T. ; Irisawa, J. ; Yokokoji, O. ; Irie, S. ; Otoguro, A. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.525-532,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
8.

国際会議録
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8. Evaluation systems of F2 laser lithography materials
Itakura, Y. ; Kawasa, Y. ; Egawa, K. ; Sumitani, A. ; Sasaki, H. ; Higasikawa, I. ; Irie, S. ; Fujii, K. ; Itani, T. ; Nakano, H. ; Hata, H.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1606-1615,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
9.

国際会議録
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9. Evaluation of outgassing from a fluorinated resist for 157-nm lithography
Irie, S. ; Fujii, K. ; Itakura, Y. ; Kawasa, Y. ; Egawa, K. ; Uchino, I. ; Sumitani, A. ; Itani, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.226-237,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
10.

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10. 157-nm resist assessment by a full-field scanner
Otoguro, A. ; Irie, S. ; Ishimaru, T. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.245-253,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376