1.

国際会議録
国際会議録
1. SOI Device Technology for low-power logic and DRAM LSIs
Maegawa, S. ; Ipposhi, T. ; Yamaguchi, Y. ; Iwamatsu, T. ; Maeda, S. ; Oashi, T. ; Ueda, K. ; Shimomura, K. ; Nishimura, T.
出版情報: Proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.352-358,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-23
2.

国際会議録
国際会議録
2. CRYSTAL-AXIS-ROTATION OF LASER-RECRYSTALLIZED SILICON ON INSULATOR
Sugahara, K. ; Ipposhi, T. ; Inoue, Y. ; Nishimura, T. ; Akasaka, Y.
出版情報: Materials issues in microcrystalline semiconductors : symposium held November 29-December 1, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.371-376,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 164
3.

国際会議録
国際会議録
3. Ultra-High-Speed and Low-Power SOI CMOS Technology with Body-Tied Hybrid Trench Isolation Structure
Hirano, Y. ; Ipposhi, T. ; Thai, D. H. ; Iwamatsu, T. ; Ikeda, T. ; Tsujiuchi, M. ; Maegawa, S. ; Inuishi, M. ; Ohji, Y.
出版情報: Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing : proceedings of the First international symposium.  pp.60-64,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-04