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検索結果:
2
件
1.
国際会議録
国際会議録
1.
Realization of mass prouction for 130-nm node and future application for high transmission using ZrSi-based attenuated phase-shift mask in ArF lithography
Ii,T. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ohshima,T. ; Otaki,M. ; Iwakata,M. ; Haraguchi,T. ; Kanayama,K. ; Yamazaki,T. ; Fukuhara,N. ; Matsuo,T.
出版情報:
20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
. pp.297-308, 2000. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4186
2.
国際会議録
国際会議録
2.
ZrSiON as a material for high-transmittance attenuated PSM
Kanayama,K. ; Haraguchi,T. ; Yamazaki,T. ; Ii,T. ; Matsuo,T. ; Fukuhara,N. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ooshima,T. ; Otaki,M.
出版情報:
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII
. pp.147-154, 2001. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4409
しぼり込み条件:
著者名: Ii,T.
言語
英語
(2)
発行年
2000-2009
(2)
資料種別
国際会議録
(2)
著者名
Fukuhara,N.
(2)
Haraguchi,T.
(2)
Hattori,Y.
(2)
Kanayama,K.
(2)
Matsuo,T.
(2)
さらに…
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