1.

国際会議録
国際会議録
1. Maintaining a Stable Etch Selectivity between Silicon Nitride and Silicon Dioxide in a Hot Phosphoric Acid Bath
L. Liu ; I. Kashkoush ; G. Chen ; C. Murphy
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.63-70,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
2.

国際会議録
国際会議録
2. IMPROVED DEFECTIVITY FOR BEOL CLEANS USING SINGLE WAFER MEGASONICS
L. Y. Lee ; T. Thanigaivelan ; J. So ; B. Frasier ; I. Kashkoush
出版情報: Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX.  pp.194-198,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(3)