1.

国際会議録
国際会議録
1. Feasibility study of printing sub-100-nm with ArF lithography
Kim,S.-K. ; Hong,J.-G. ; Park,J.-O. ; Yoo,T.-J. ; Hyun,Y.-S. ; Bok,C.-K. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.214-221,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
2.

国際会議録
国際会議録
2. Comparison study on mask error factor in 100-nm ArF and KrF lithography
Eom,T.-S. ; Hyun,Y.-S. ; Kim,C.-K. ; Bok,C.-K. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.869-878,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346