1.

国際会議録
国際会議録
1. Three-Dimensional Monte Carlo Simulation of Implanted Boron and Damage Distribution in Crystalline Silicon Considering Mask Structure
Son, M.-S. ; Lee, J.-H. ; Byun, K.-R. ; Hwang, H.-J.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology.  pp.496-508,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-4
2.

国際会議録
国際会議録
2. Estimation of the bound-to-continuum transition amplitude in a biased GaAs/AlGaAs multiple quantum well structure
Choe, J.-W. ; Lee, S.J. ; Hwang, H.-J. ; Choi, W.S. ; Park, S.H.
出版情報: Infrared technology and applications XXIV : 19-24 July 1998, San Diego, California.  Part 1  pp.16-23,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3436
3.

国際会議録
国際会議録
3. Smart point landmark distribution for thin-plate splines
Lewis, J.P. ; Hwang, H.-J. ; Neumann, U. ; Enciso, R.
出版情報: Medical Imaging 2004: Image Processing.  pp.1236-1243,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5370