1.

国際会議録
国際会議録
1. Gas Phase Conditioning of Silicon Surface after Reactive Ion Etching
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.555-563,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
2.

国際会議録
国際会議録
2. CLEANING OF SILICON SURFACE AFTER RIE USING UV/OZONE AND HF/CH3OH
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.401-408,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
3.

国際会議録
国際会議録
3. Conditioning of Silicon Surface After RIE Using O2 and NF3 Remote Plasma
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J. ; Grant, R.
出版情報: ULSI science and technology, 1995 : proceedings of the Fifth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology.  pp.230-235,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-5
4.

国際会議録
国際会議録
4. Effects of As Doping on Properties of ZnO Films
Huh, K.S. ; Hwang, D.K. ; Bang, K.H. ; Hong, M.K. ; Lee, D.H. ; Myoung, J.M. ; Oh, M.S. ; Choi, W.K.
出版情報: Progress in semiconductor materials for optoelectronic applications : symposium held November 26-29, 2001, Boston, Massachusetts, U.S.A.  pp.649-654,  2002.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 692
5.

国際会議録
国際会議録
5. MONITORING OF SILICON SURFACE AFTER REACTIVE ION ETCHING
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.184-193,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20