1.

国際会議録
国際会議録
1. Influence of the baking process for chemically amplified resist on CD performance
Sasaki, S. ; Ohfuji, T. ; Kurihara, M. ; Inomata, H. ; Jackson, C.A. ; Murata, Y. ; Totsukawa, D. ; Tsugama, N. ; Kitano, N. ; Hayashi, N. ; Hwang, D.H.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.599-606,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
2.

国際会議録
国際会議録
2. Lithography strategy for 65-nm node (Invited Paper)
Borodovsky, Y.A. ; Schenker, R.E. ; Allen, G.A. ; Tejnil, E. ; Hwang, D.H. ; Lo, F.-C. ; Singh, V.K. ; Gleason, R.E. ; Brandenburg, J.E. ; Bigwood, R.M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.1-14,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
3.

国際会議録
国際会議録
3. Patterning strategy for low-K1 lithography
Hwang, D.H. ; Cheng, W.-H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.9-18,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446