1.

国際会議録
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1. The study of phase angle effects to wafer process window using 193-nm EAPSM in a 300-mm wafer manufacturing environment
Chou, W.Y. ; Yen, S.M. ; Wu, J.K. ; Shieh, W.B. ; Chuang, M. ; Fan, G. ; Tseng, C.C. ; Hughes, G.P. ; MacDonald, S.S. ; Holiday, C. ; Chen, G.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.615-623,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
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2. Strategies for predictive control of chrome stress-induced registration errors
Wei, A.C. ; Hughes, G.P. ; Chalekian, A.J. ; Mackey, L.N. ; Mikkelson, A.R. ; Engelstad, R.L.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.182-192,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
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3. Mighty high-T lithography for 65-nm generation contacts
Conley, W. ; Montgomery, P.K. ; Lucas, K. ; Litt, L.C. ; Maltabes, J.G. ; Dieu, L. ; Hughes, G.P. ; Mellenthin, D.L. ; Socha, R.J. ; Fanucchi, E.L. ; Verhappen, A. ; Wampler, K.E. ; Yu, L. ; Schaefer, E. ; Cassel, S. ; Kuijten, J.P. ; Pijnenburg, W. ; Wiaux, V. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1210-1219,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Advanced 193 tri-tone EAPSM (9% to 18%) for 65-nm node
Dieu, L. ; Fanucchi, E.L. ; Hughes, G.P. ; Maltabes, J.G. ; Mellenthin, D.L. ; Conley, W. ; Litt, L.C. ; Lucas, K. ; Socha, R.J. ; Wampler, K.E. ; Verhappen, A. ; Kiuten, J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1227-1233,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
5.

国際会議録
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5. Effect of quartz phase etch on 193-nm alternating phase-shift mask performance for the 100- nm node
Patterson, K. ; Litt, L.C. ; Maltabes, J.G. ; Hughes, G.P. ; Robertson, T. ; Montgomery, B.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1033-1040,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
6.

国際会議録
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6. Aberration determination in early 157-nm exposure system
Smith, B.W. ; Conley, W. ; Garza, C.M. ; Meute, J. ; Miller, D.A. ; Rich, G.K. ; Graffenberg, V. ; Dean, K.R. ; Patel, S. ; Ford, A. ; Foster, J. ; Moers, M.H. ; Cummings, K.D. ; Webb, J.E. ; Dewa, P.G. ; Zerrade, A. ; McDonald, S.S. ; Hughes, G.P. ; Dirksen, P.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1635-1643,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
7.

国際会議録
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7. Manufacturing of ArF chromeless hard shifter for 65-nm technology
Park, K.-T. ; Dieu, L. ; Hughes, G.P. ; Green, K.G. ; Croffie, E.H. ; Taravade, K.N.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1006-1016,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
8.

国際会議録
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8. Study of OPC for AAPSM reticles using various mask fabrication techniques
Hughes, G.P. ; Kamaruddin, D. ; Nakagawa, K.H. ; MacDonald, S. ; Wilkinson, B. ; West, C. ; Park, K.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.204-211,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
9.

国際会議録
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9. Through pitch intensity balancing and phase error analysis of 193-nm alternating phase shift masks
Nakagawa, K.H. ; Hughes, G.P. ; Park, K. ; Buck, P.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1025-1031,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
10.

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10. Analysis of off-axis-illumination-based phase-edge/chromeless mask technologies
Croffie, E.H. ; Taravade, K.N. ; Callan, N. ; Park, K. ; Hughes, G.P.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1279-1286,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377