1.

国際会議録
国際会議録
1. Accuracy of diffused aerial image model for full-chip-level optical proximity correction
Hong,J.-S. ; Kim,H.-B. ; Yune,H.-S. ; Ahn,C.-N. ; Koo,Y.-M. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1024-1032,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
国際会議録
2. Defect inspection and printability of deep-UV halftone phase-shifting mask
Kim,H.-J. ; Hong,J.-S. ; Kye,J.-W. ; Cha,D.-H. ; Kang,H.-Y. ; Moon,J.-T.
出版情報: 17th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.430-440,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3236
3.

国際会議録
国際会議録
3. Potentialities of sub-100-nm optical lithography of alternating and phase-edge phase-shift mask for ArF lithography
Koo,S.-S. ; Kim,H.-B. ; Yune,H.-S. ; Hong,J.-S. ; Paek,S.-W. ; Eom,T.-S. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Baik,K.-H. ; Lee,K.-Y. ; Kim,L.-J. ; Kim,H.-S.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.346-358,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186