1.

国際会議録
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1. Post-Implantation Annealing in a Silane Ambient Using Hot-Wall CVD
Rao, S.P. ; Bergamini, F. ; Nipoti, R. ; Hoff, A.M. ; Oborina, E. ; Saddow, S.E.
出版情報: Silicon carbide and related materials - 2005 : proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials - 2005 : Pittsburgh, Pennsylvania, USA : September 18-23 2005.  pp.839-842,  2006.  Stafa-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 527-529
2.

国際会議録
国際会議録
2. Monitoring of Mobile Sodium Ions in SiO2 Using Corona Charging
Stevie, F.A. ; Persson, E. ; DeBusk, D.K. ; Savchuk, A. ; Hoff, A.M. ; Edelman, P. ; Lagowski, J.
出版情報: Proceedings of the Electrochemical Society Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.357-364,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-12
3.

国際会議録
国際会議録
3. SURFACE PHOTOVOLTAGE MEASUREMENTS OF CONTAMINATION INTRODUCED BY RESIST ASHING PROCESSES
Hoff, A.M. ; Persson, E.J.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.587-593,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
4.

国際会議録
国際会議録
4. CONTROL OF MANUFACTURING CLEANING OPERATIONS USING SURFACE PHOTOVOLTAGE TECHMQUES
Hoff, A.M. ; Persson, E.J. ; Chacon, J. ; DeSelms, B.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.522-529,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
5.

国際会議録
国際会議録
5. Fast Non-Contact Dielectric Characterization for SiC MOS Processing
Hoff, A.M. ; Oborina, E.
出版情報: Silicon carbide and related materials - 2005 : proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials - 2005 : Pittsburgh, Pennsylvania, USA : September 18-23 2005.  pp.1035-1038,  2006.  Stafa-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 527-529
6.

国際会議録
国際会議録
6. Surface Photovoltage Characterization of Low Temperature Annealed LPCVD Silicon on Glass
Sen, S. ; Hoff, A.M. ; Moradi, B. ; Lagowski, J. ; Jastrzebski, L.
出版情報: Proceedings of the Second Symposium on Thin Film Transistor Technologies.  pp.269-278,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-35
7.

国際会議録
国際会議録
7. Non-Contact Doping Profiling in Epitaxial SiC
Savtchouk, A. ; Oborina, E. ; Hoff, A.M. ; Lagowski, J.
出版情報: Silicon carbide and related materials 2003 : ICSCRM, 2003 : proceedings of the 10th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2003, Lyon, France, October 5-10, 2003.  pp.755-758,  2004.  Uetikon-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 457-460
8.

国際会議録
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8. Thermal Oxidation of 4H-Silicon Using the Afterglow Method
Hoff, A.M. ; Oborina, E. ; Saddow, S.E. ; Savtchouk, A.
出版情報: Silicon carbide and related materials 2003 : ICSCRM, 2003 : proceedings of the 10th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2003, Lyon, France, October 5-10, 2003.  pp.1349-1352,  2004.  Uetikon-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 457-460
9.

国際会議録
国際会議録
9. Whole-Wafer Plasma Damage Evaluation
Hoff, A.M. ; Lagowski, J. ; Nauka, N. ; Esry, T.C. ; Edelman, P. ; Jastrzebski, L.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on High Purity Silicon.  pp.544-553,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-13