1.

国際会議録
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1. Critical and Sub-Critical Debonding in Nano-Clustering Porous Low-k Films
Smith, R.S. ; Uchibori, C.J. ; Ho, P.S. ; Nakamura, T.
出版情報: Materials, technology and reliability of low-k dielectrics and copper interconnects : symposium held April 18-21, 2006, San Francisco, California, U.S.A..  pp.83-88,  2006.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 914
2.

国際会議録
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2. Thermal Stress Characteristics and Void Formation in Al(Cu) Interconnects
Ho, P.S. ; Yeo, I.-s. ; Jawarani, D. ; Anderson, S.G. ; Kawasaki, H.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Reliability of Metals in Electronics.  pp.106-115,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-3
3.

国際会議録
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3. Out-of-Plane Thermal and Mechanical Properties of Polyimide Thin Films
Liou, H.-C. ; Willecke, R. ; Ho, P.S.
出版情報: Dielectric material integration for microelectronics.  pp.272-278,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-3
4.

国際会議録
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4. Stress Voiding and Electromigration Failure in Multilevel Interconnect Metallization
Ho, P.S. ; Anderson, S.G.H. ; Yeo, I.S. ; Hu, C.K.
出版情報: Proceedings of the fourth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology : ULSI science and technology/1993.  pp.220-237,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-13
5.

国際会議録
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5. The Thermal and Mechanical Properties of Perfluorocyclobutane Aromatic Ether Polymers
Liou, H.-C. ; Ho, P.S. ; McKerrow, A.
出版情報: Dielectric material integration for microelectronics.  pp.113-117,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-3
6.

国際会議録
国際会議録
6. EFFECTS OF HYDROGEN ON THERMAL STRESS IN LAYERED STRUCTURE OF Ti AND Ti (Al) THIN FILMS
Hu,C.-K. ; Ho, P.S. ; Gupta, D. ; Chen, S.T.
出版情報: Thin films : stresses and mechanical properties : symposium held November 28-30, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.255-260,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 130
7.

国際会議録
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7. ALUMINA-Ti INTERFACE REACTIONS STUDIED BY AES AND UPS
Lefakis, H. ; Liehr, M. ; Rubloff, G.W. ; Ho, P.S.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.133-138,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54
8.

国際会議録
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8. *SCHOTTKY BARRIER AND ELECTRONIC STATES AT SILICIDESILICON INTERFACES
Schmid, P.E. ; Liehr, M. ; LeGoues, F.K. ; Ho, P.S.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.469-478,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54
9.

国際会議録
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9. *SILICIDE-SILICON INTERFACE STATES
Yang, E.S. ; Wu, X. ; Evans, H.L. ; Ho, P.S.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.485-492,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54
10.

国際会議録
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10. REACTION KINETICS, STRESS AND MICROSTRUCTURE IN TITANIUM-COPPER-TITANIUM THIN FILMS
Hu, C.-K. ; Gupta, D. ; Wetzel, J.T. ; Ho, P.S.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.153-158,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54