1.

国際会議録
国際会議録
1. Study of Precursors for Atmospheric Pressure Plasma Enhanced CVD (AP-PECVD) of Silicon Dioxide Films
Alexandrov, S.E. ; Hitchman, M.L. ; McSporran, N.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.630-637,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
2.

国際会議録
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2. Study by in Situ FTIR Spectroscopy of the Roles of Homogeneous and Heterogeneous Reactions in the Decomposition of Precursors
Condorelli, G.G. ; Hitchman, M.L. ; Kovalgin, A.Y. ; Shamlian, S.H.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.901-908,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
3.

国際会議録
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3. Low Temperature CVD OF Tantalum Oxide Films
Li, X. ; Hitchman, M.L. ; Shamlian, S.H.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.1246-1253,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
4.

国際会議録
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4. In Situ Studies of TEOS/OZONE CVD: Experimental Considerations for Probing Reactions in Commercial CVD Equipment
Condorelli, G.G. ; Hitchman, M.L. ; Kovalgin, A.Y. ; Shamlian, S.H.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Fundamental Gas-phase and Surface Chemistry of Vapor-phase Materials Synthesis.  pp.153-161,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-23