1.

国際会議録
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1. IMPACT OF THE ELECTROCHEMICAL PROPERTIES OF SILICON WAFER SURFACES ON COPPER OUTPLATING FROM HF SOLUTIONS
Teerlinck, I. ; Schmidt, H.F. ; Rotondaro, A.L.P. ; Hurd, T.Q. ; Mouche, L. ; Mertens, P.W. ; Meuris, M. ; Heyns, M.M. ; Vanhaeren, D. ; Vandervorst, W.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.284-291,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
2.

国際会議録
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2. METAL INTERACTIONS WITH SILICA (SiO2) SURFACES: ADSORPTION AND ION EXCHANGE
Hurd, T.Q. ; Schmidt, H.F. ; Rotondaro, A.L.P. ; Mertens, P.W. ; Hall, L.H. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.277-283,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
3.

国際会議録
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3. *CLEANING OF METAL CONTAMINATION
Mertens, P.W. ; Hurd, T.Q. ; Graf, D. ; Meuris, M. ; Schmidt, H.F. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Contamination Control and Defect Reduction in Semiconductor Manufacturing III.  pp.241-252,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-9
4.

国際会議録
国際会議録
4. Electrochemical Study of Copper Deposition on Silicon Surfaces in HF Solutions
Teerlinek, I. ; Gomes, W.P. ; Strubbe, K. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Electrochemical processing in ULSI fabrication and semiconductor/metal deposition II : proceedings of the international symposium.  pp.156-159,  1999.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-9
5.

国際会議録
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5. EVALUATION OF Si SURFACE CONDITIONS BY THE USE OF A SURFACE PHOTOVOLTAGE TECHNIQUE
Trauwaert, M.-A. ; Kenis, K. ; Caymax, M. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M. ; Vanhellemont, J. ; Graf, D. ; Wagner, P.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.455-462,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
6.

国際会議録
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6. VAPOR PHASE DECOMPOSITION - DROPLET COLLECTION EVALUATION OF A WAFER SURFACE PREPARATION SYSTEM
De Gendt, S. ; Arnauts, S. ; Witters, T. ; Boehme, W. ; Gonchond, J.P. ; Huber, A. ; Lerche, J. ; Loewenstein, L. ; Rink, I. ; Wortelboer, R. ; Mueris, M. ; Heyns, M.M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.593-600,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
7.

国際会議録
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7. Advanced Wet Cleaning Technology For Highly Reliable Thin Oxides
Verhaverbeke, S. ; Meuris, M. ; Mertens, P. ; Schmidt, H. ; Heyns, M.M. ; Philipossian, A. ; Graeff, D. ; Dillenbeck, K.
出版情報: Proceedings of the fourth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology : ULSI science and technology/1993.  pp.199-219,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-13
8.

国際会議録
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8. GRAZINGEMISSION X-RAY FLUORESCENCE SPECTROMETRY: A NOVEL TOOL FOR SURFACE CONTAMINATION ANALYSIS AND THIN FILM METROLOGY
deBokx, P.K. ; Kidd, S.J. ; Wiener, G. ; Urbach, H.P. ; De Gendt, S. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Silicon materials science and technology : proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1511-1523,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-1(2)
9.

国際会議録
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9. Effect of Metal Contamination and Improved Cleaning Strategies
Mertens, P.W. ; Bearda, T. ; Lowewenstein, L.M. ; Martin, A.R. ; Hub, W. ; Kolbesen, B.O. ; Teerlink, I. ; Vos, R. ; Baeyens, M. ; Gendt, S.De ; Kenis, K. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Defects in Silicon.  pp.401-413,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-1
10.

国際会議録
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10. HYDROGEN PASSIVATION OF HF-LAST CLEANED (100) SILICON SURFACES: A MIR-FTIR STUDY
Bender, H. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.186-194,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7