1.

国際会議録
国際会議録
1. Defect printability study with programmed defects on halftone reticles
Dettmann,W. ; Haffner,H. ; Heumann,J.P. ; Liebe,R. ; Ludwig,R. ; Moses,R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.479-487,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
2.

国際会議録
国際会議録
2. New approaches to alternating phase-shift mask inspection
Zurbrick,L. ; Heumann,J.P. ; Rudzinski,M.W. ; Stokowski,S.E. ; Urbach,J.-P. ; Wang,L.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.138-144,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562