1.

国際会議録
国際会議録
1. Review and Experimental Analysis of Oxide CMP Models
Stein, David J. ; Hetherington, Dale L.
出版情報: Chemical mechanical planariarization in IC device manufacturing III : proceedings of the international symposium.  pp.217-233,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-37
2.

国際会議録
国際会議録
2. Improved polysilicon surface-micromachined micromirror devices using chemical-mechanical polishing
Hetherington, Dale L. ; Sniegowski, Jeffry J.
出版情報: Photonics for space environments VI : 22 July 1998, San Diego, California.  pp.148-153,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3440
3.

国際会議録
国際会議録
3. Polyurethane Pad Degradation and Wear Due to Tungsten and Oxide CMP
Moy, Amy L. ; Cecchi, Joseph L. ; Hetherington, Dale L. ; Stein, David J.
出版情報: Chemical-mechanical polishing 2001 -- advances and future challenges : symposium held April 18-20, 2001, San Francisco, California, U.S.A..  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 671