1.

国際会議録
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1. Strategies of optical proximity correction dedicated to chromeless phase lithography for 65 and 45 nm node
Winkler, T. ; Dettmann, W. ; Hennig, M. ; Koestler, W. ; Moukara, M. ; Thiele, J. ; Zeiler, K.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.476-487,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Complementary dipole exposure solutions at 0.29 k1
Heumann, J. ; Schramm, J. ; Birnstein, A. ; Park, K. T. ; Witte, T. ; Morgana, N. ; Hennig, M. ; Pforr, R. ; Thiele, J. ; Schmidt, N. ; Aquino, C.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.327-338,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
3.

国際会議録
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3. Contact layer printing using alternating phase-shifting masks: mask making, patterning results, and production implementation
Pforr, R. ; Dettmann, W. ; Eisenhut, M. ; Hennig, M. ; Hofmann, D. ; Thiele, J. ; Thielscher, G.
出版情報: 20th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.178-187,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5504
4.

国際会議録
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4. Verifying high NA polarization OPC treatment on wafer [6154-133]
Schlief, R. E. ; Hennig, M. ; Pforr, R ; Thiele, J. ; Hoepfl, M.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61543F-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
5.

国際会議録
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5. Full-level alternating PSM for sub-100nm DRAM gate patterning
Pforr, R. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Ludwig, B. ; Morgana, N. ; Thiele, J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.232-243,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
6.

国際会議録
国際会議録
6. Introduction of full-level alternating phase-shift mask technology into IC manufacturing
Thiele, J. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Heissmeier, M. ; Hennig, M. ; Ludwig, B. ; Moukara, M. ; Pforr, R.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.89-97,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
7.

国際会議録
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7. Qualification of alternating PSM: defect inspection analysis in comparison to wafer printing results
Dettmann, W. ; Heumann, J.P. ; Hagner, T. ; Koehle, R. ; Rahn, S. ; Verbeek, M. ; Zarrabian, M. ; Weckesser, J. ; Hennig, M. ; Morgana, N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.415-422,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
8.

国際会議録
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8. AltPSM inspection capability and printability of quartz defects
Heumann, J.P. ; Zarrabian, M. ; Hennig, M. ; Dettmann, W. ; Zurbrick, L.S. ; Lang, M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1033-1040,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
9.

国際会議録
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9. Alternating phase-shifting masks: phase determination and impact of quartz defects- theoretical and experimental results
Griesinger, U.A. ; Dettmann, W. ; Hennig, M. ; Heumann, J.P. ; Koehle, R. ; Ludwig, R. ; Verbeek, M. ; Zarrabian, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.410-421,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
10.

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10. Hard phase-shifting masks for the 65-nm node: a performance comparison
Pforr, R. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Morgana, N. ; Thiele, J. ; Weckesser, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.212-221,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377