1.

国際会議録
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1. EFFECT OF C IMPURITIES IN a-Si:H AS MEASURED BY DRIVE-LEVEL CAPACITANCE, PHOTOCURRENT, AND ELECTRON SPIN RESONANCE
Hautala, J. ; Unold, T. ; Cohen, J.D.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1993 : Symposium held April 13-16, San Francisco, California, U.S.A..  pp.375-380,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 297
2.

国際会議録
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2. Nanoscale surface texturing by impact of accelerated condensed-gas nanoparticles
Allen, L.P. ; Fenner, D.B. ; Santeufemio, C. ; Brooks, W. ; Hautala, J. ; Shao, Y.
出版情報: Complex mediums III : beyond linear isotropic dielectrics : 8-10 July 2002, Seattle, [Washington] USA.  pp.225-232,  2002.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4806
3.

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3. LOW TEMPERATURE OPTICALLY INDUCED ESR in a-Si:H AND THE PRESENCE OF INTERFACE STATES
Reistein, J. ; Hautala, J. ; Taylor, P. C.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1989 : symposium held April 25-28, 1989, San Diego, California, U.S.A..  pp.717-722,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 149
4.

国際会議録
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4. ABSORPTION COMPONENT OF THE MAGNETIC SUSCEPTIBILITY IN SUPERCONDUCTING YBa2Cu3O7
Durny, R. ; Ducharme,S. ; Hautala, J. ; Symko, O. G. ; Taylor, P. C. ; Kulkarni, Sudhir
出版情報: High-temperature superconductors : symposium held November 30-December 4, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.849-852,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 99
5.

国際会議録
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5. Infusion Processing: An Alternative to Plasma Technology for Semiconductor Device Manufacturing (Invited paper)
Hautala, J. ; Skinner, W. ; Sherman, S. ; Shao, Y. ; Borland, J.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.118-132,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-06
6.

国際会議録
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6. Etching and surface smoothing with gas-cluster ion beams
Fenner, D. B. ; Torti, R. P. ; Allen, L. P. ; Toyoda, N. ; Kirkpatrick, A. R. ; Greer, J. A. ; DiFilippo, V. ; Hautala, J.
出版情報: Fundamental mechanisms of low-energy-beam-modified surface growth and processing : symposium held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.27-,  2000.  Warrendale, Pa..  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 585
7.

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7. High Deposition Rate a-Si:H for the Flat-Panel Display Industry
Hautala, J. ; Saleh, Z. ; Westendorp, J. F. M. ; Meiling, H. ; Sherman, S. ; Wagner, S.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1996 : symposium held April 8-12, 1996, San Francisco, California, U.S.A..  pp.83-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 420
8.

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8. High Deposition Rate a-Si:H for the Flat Panel Display Industry
Hautala, J. ; Saleh, Z. ; Westendorp, J. F. M. ; Meiling, H. ; Sherman, S. ; Wagner, S.
出版情報: Flat panel display materials II : symposium held April 8-12, 1996, San Francisco, California, U.S.A..  pp.9-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 424
9.

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9. (11.5) 4:40 - 5:00 PM - Ge & Ge+B Infusion Doping and Deposition for Ultra-shallow Junction, Blanket and Localized SiGe or Ge Formation on Cz and SOI Wafers
Borland, J. ; Hautala, J. ; Tabat, M. ; Gwinn, M. ; Tetreault, T. ; Skinner, W.(J.O.B. Technologies)
出版情報: SiGe: materials, processing, and devices : proceedings of the First international symposium.  pp.769-784,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-07
10.

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10. Smoothing Thin Films With Gas-Cluster Ion Beams
Fenner, D.B. ; Hautala, J. ; Allen, L.P. ; Greer, J.A. ; Skinner, W.J. ; Budnick, J.I.
出版情報: Magnetic materials, structures and processing for information storage: symposium held April 24-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A..  pp.F10.3-,  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 614