1.

国際会議録
国際会議録
1. Rapid Thermal Processes for Future Nanometer MOS Devices
Hauser, John R.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing VII : symposium held April 13-15, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.171-,  1998.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 525
2.

国際会議録
国際会議録
2. Controlled Nitrogen-Atom Incorporation at Si-SiO2 Interfaces in MIS Devices
Lee, David R. ; Parker, Christopher G. ; Hauser, John R. ; Lucovsky, Gerald
出版情報: Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposum held April 17-19, 1995, San Francisco, California, USA.  pp.243-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 386