1.

国際会議録
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1. Development of ZrSiO attenuated phase-shift mask for ArF excimer laser lithography
Fukuhara,N. ; Haraguchi,T. ; Kanayama,K. ; Matsuo,T. ; Takeuchi,S. ; Tomiyama,K. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ooshima,T. ; Otaki,M.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.979-986,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
2.

国際会議録
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2. Proximity effect correction for reticle fabrication
Kamikubo,T. ; Abe,T. ; Oogi,S. ; Anze,H. ; Shimizu,M. ; Itoh,M. ; Nakasugi.T. ; Iijima,T. ; Hattori,Y.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.173-177,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
3.

国際会議録
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3. Control of resist heating effect
Anze,H. ; Abe,T. ; Sakurai,H. ; Iijima,T. ; Hattori,Y. ; Nakayamada,N. ; Kamikubo,T.
出版情報: Emerging lithographic technologies IV : 28 February-1 March 2000, Santa Clara, USA.  pp.256-265,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3997
4.

国際会議録
国際会議録
4. Realization of mass prouction for 130-nm node and future application for high transmission using ZrSi-based attenuated phase-shift mask in ArF lithography
Ii,T. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ohshima,T. ; Otaki,M. ; Iwakata,M. ; Haraguchi,T. ; Kanayama,K. ; Yamazaki,T. ; Fukuhara,N. ; Matsuo,T.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.297-308,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
5.

国際会議録
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5. ZrSiON as a material for high-transmittance attenuated PSM
Kanayama,K. ; Haraguchi,T. ; Yamazaki,T. ; Ii,T. ; Matsuo,T. ; Fukuhara,N. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ooshima,T. ; Otaki,M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.147-154,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
6.

国際会議録
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6. Actual use of phase-shift mask
Yamada,Y. ; Unno,H. ; Chiba,K. ; Karikawa,E. ; Kikuchi,Y. ; Hattori,Y. ; Kinemura,K.
出版情報: 15th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.266-272,  1995.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2621