1.

国際会議録
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1. Vacuum delay effect of CAR in mask fabrication
Kim,C.-H. ; Jeon,C.-U. ; Han,S.-J. ; Cho,W.-I. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Emerging lithographic technologies V : 27 February-1 March, 2001, Santa Clara, [California], USA.  pp.285-293,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4343
2.

国際会議録
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2. Application of e-beam chemically amplified resist to devices below 0.18-μm node
Jeon,C.-U. ; Kim,C.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.160-163,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
3.

国際会議録
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3. Optical proximity correction considering mask manufacturability and its application to 0.25-ｦﾌm DRAM for enhanced device performance
Park,C.-H. ; Rhie,S.-U. ; Choi,J.-H. ; Park,J.-S. ; Seo,H.-W. ; Kim,Y.-H. ; Park,Y.-K. ; Han,W.-S. ; Lee,W.-S. ; Kong,J.-T.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1041-1046,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
4.

国際会議録
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4. Design and properties of new deep-UV positive photoresist
Choi,S.-J. ; Jung,S.-Y. ; Kim,C.-H. ; Park,C.-G. ; Han,W.-S. ; Koh,Y.-B. ; Lee,M.-Y.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIII : 11-13 March 1996, San Clara, California.  pp.323-331,  1996.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2724
5.

国際会議録
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5. Influence of intermetal dielectric thickness on overlay mark size variation in photolithography
Lee,S.-J. ; Yoo,J.-Y. ; Kim,Y.-C. ; Kim,H. ; Nam,J.-L. ; Chung,U.-I. ; Kang,G.-W. ; Han,W.-S.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIV : 28 February - 2 March 2000, San Clara, California.  pp.195-204,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3998
6.

国際会議録
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6. Doubly exposed patterning characteristics using two alternating phase-shift masks
Lee,S.-W. ; Shin,I.-G. ; Kim,Y.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.32-36,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
7.

国際会議録
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7. Optical proximity correction of bit line pattern in DRAM devices
Kim,Y.-B. ; Sohn,C.-J. ; Kang,H.-Y. ; Han,W.-S. ; Koh,Y.-B.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.670-679,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
8.

国際会議録
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8. Swing curve characteristics of halftone PSM with off-axis illumination for i-line lithography
Choi,Y.-S. ; Kang,H.-Y. ; Han,W.-S. ; Koh,Y.-B.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.508-515,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
9.

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9. Application of alternating phase-shifting masks to sub-quarter-micrometer contact holes
Lim,S.-C. ; Kye,J.-W. ; Woo,S.-G. ; Kim,S.-G. ; Kang,H.-Y. ; Han,W.-S. ; Koh,Y.-B.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.516-523,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
10.

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10. Analysis of dry etch loading effect in mask fabrication
Lee,J.-Y. ; Cho,S.-Y. ; Kim,C.-H. ; Lee,S.-W. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.609-615,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562