1.

国際会議録
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1. Monolithic 1.55 ｦﾌm Surface-Emitting Laser Structure With In0.53Al0.14 Ga0.33As/In0.52Al0.48As Distributed Bragg Reflector and Single Cavity Active Layer Grown by Metalorganic-Chemical-Vapor-Deposition Method
Baek, J-H. ; Lee, B. ; Han, W. S. ; Smith, J. M. ; Jeong, B. S. ; Lee, E-H.
出版情報: Infrared applications of semiconductors II : symposium held December 1-4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.649-,  1998.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 484
2.

国際会議録
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2. EUV mask pattern inspection for memory mask fabrication in 45-nm node and below [6349-95]
Kim, D. Y. ; Cho, S. Y. ; Kim, H. ; Huh, S. M. ; Chung, D. H. ; Cha, B. C. ; Lee, J. W. ; Choi, S. W. ; Han, W. S. ; Park, K. H. ; Kim, E. J. ; Guo, Z. ; Quach, E. ; Gee, D. ; Brown, T.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63492L-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
3.

国際会議録
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3. A study of Cr to Mosi in situ dry etching process to reduce plasma induced defect [5992-25]
Jang, I. -Y. ; Park, Y. -J. ; Kwon, H. -J. ; Moon, S. -Y. ; Choi, S. -W. ; Han, W. S.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59920O-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
4.

国際会議録
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4. The detectability of Qz phase defects and its application for 65 nm node CPL mask manufacturing [5992-05]
Cho, W. I. ; Park, J. H. ; Chung, D. H. ; Choi, S. W. ; Han, W. S.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.599205-599205,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
5.

国際会議録
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5. Implementation of reflected light die-to-die inspection and ReviewSmart to improve 65nm DRAM mask fabrication [5992-09]
Kim, D. Y. ; Cho, W. I. ; Park, J. H. ; Chung, D. H. ; Cha, B. C. ; Choi, S. W. ; Han, W. S. ; Park, K. H. ; Kim, N. W. ; Hess, C. ; Ma, W. ; Kim, D.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.599209-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
6.

国際会議録
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6. Feasibility study of mask fabrication in double exposure technology [6349-67]
Doh, J. G. ; Lee, S. H. ; Yoon, J. B. ; Lee, D. Y. ; Cho, S. Y. ; Kim, B. G. ; Choi, S. W. ; Han, W. S.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63491U-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349