1.

国際会議録
国際会議録
1. Deposition of LPCVD Amorphous Silicon Thin Films With a Low Content of Germanium: Crystallization and Electrical Characteristics
Briand, D. ; Kis-Sion, K. ; Mohammed-Brahim, T. ; Sarret, M. ; Le Bihan, F. ; Haji, L. ; Bonnaud, O.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.1340-1347,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
2.

国際会議録
国際会議録
2. SUBSTRATE EFFECTS ON THE KINETICS OF SOLID PHASE CRYSTALLIZATION IN a-Si
Haji, L. ; Joubert, P. ; Guendouz, M. ; Duhamel, N. ; Loisel, B.
出版情報: Phase transformation kinetics in thin films : symposium held April 29-May 1, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.177-182,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 230
3.

国際会議録
国際会議録
3. TEM Study of Porous Silicon Fabricated from n- and p-Type-Doped Polycrystalline Films
Haji, L. ; Thomas, Y. Le ; Lai, F. Chane Che ; Joubert, P.
出版情報: Advances in microcrystalline and nanocrystalline semiconductors, 1996 : symposium held December 2-6, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.421-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 452