1.

国際会議録
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1. SOI FORMATION BY A LINE-SOURCE ELECTRON BEAM AND ELECTRICAL CHARACTERISTICS
Hada, H. ; Okabayashi, H. ; Saito, S. ; Nakamura, T. ; Kawase, Y.
出版情報: Silicon-on-insulator and buried metals in semiconductors : symposium held November 30-December 3, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.201-206,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 107
2.

国際会議録
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2. Chemically amplified negative-tone resist using novel acryl polymer for 193-nm lithography
Hada, H. ; Iwai, T. ; Nakayama, T.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.676-683,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
3.

国際会議録
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3. A new 193nm resist
Hirayama, T. ; Shiono, D. ; Matsumaru, S. ; Ogata, T. ; Hada, H. ; Onodera, J. ; Arai, T. ; Sakamizu, T. ; Yamaguchi, A. ; Shiraishi, H. ; Fukuda, H. ; Ueda, M.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.122-130,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
4.

国際会議録
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4. Photochemical Aspects of Amorphous-Si Nucleation by Photo-CVD
Hada, H. ; Kawasaki, M.
出版情報: Photochemistry on solid surfaces.  pp.339-,  1989.  Amsterdam.  Elsevier
シリーズ名: Studies in surface science and catalysis
シリーズ巻号: 47
5.

国際会議録
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5. Interconnect-Related Degradation of PZT Capacitor for FeRAM
Kobayashi, S. ; Amanuma, K. ; Hada, H.
出版情報: Ferroelectric thin films VII : symposium held November 30-December 3, 1998, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.83-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 541
6.

国際会議録
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6. CONTROL OF NATiVE OXIDES ON DEEP-SUBMICRON CONTACT-HOLE-BOTTOM SURFACES
Aoto, N. ; Nakamori, M. ; Hada, H. ; Kunio, T. ; Teraoka, Y. ; Nishiyama, I. ; Ikawa, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.65-69,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
7.

国際会議録
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7. Molecular resists based on cholate derivatives for electron-beam lithography [6153-87]
Shiono, D. ; Hirayama, T. ; Hada, H. ; Onodera, J. ; Arai, T. ; Yamaguchi, A. ; Kojima, K. ; Shiraishi, H. ; Fukuda, H.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXIII.  pp.61532D-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6153
8.

国際会議録
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8. Fine pattern replication on 10×10-mm exposure area using ETS-1 laboratory tool in HIT
Hamamoto, K. ; Watanabe, T. ; Hada, H. ; Komano, H. ; Kishimura, S. ; Okazaki, S. ; Kinoshita, H.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part Two  pp.664-671,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688
9.

国際会議録
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9. Evaluation of resist outgassing by EUV irradiation
Hada, H. ; Watanabe, T. ; Hamamoto, K. ; Kinoshita, H. ; Komano, H.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.686-694,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
10.

国際会議録
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10. Investigation of the polymer systems for ArF resists
Yamana, M. ; Hirano, M. ; Nagahara, S. ; Kasama, K. ; Hada, H. ; Miyairi, M. ; Kohno, S. ; Iwai, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.752-760,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039