1.

国際会議録
国際会議録
1. Identifying Performance-Critical Defects in the High-κ/Metal Gate Stacks
G.i Bersuker ; D. Hen ; J. Price ; A. Neugroschel ; H. Tseng
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics 6.  pp.395-410,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(5)
2.

国際会議録
国際会議録
2. CMOS Scaling For the Next Decade: Trends, Challenges and Opportunities
P. Majhi ; J. Oh ; S. Lee ; R. Harris ; H. Tseng
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 4 : new materials, processes and equipment.  pp.253-262,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 13(1)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Martensite transformation and shape memory effect of NiTi-Zr high-temperature shape memory alloys
Z. Pu ; H. Tseng ; K. Wu
出版情報: Smart structures and materials 1995 : smart materials.  pp.171-178,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2441