1.

国際会議録
国際会議録
1. Latent image metrology for production wafer steppers
P. Dirksen ; W. de Laat ; H. Megens
出版情報: Optical/laser microlithography VIII : 22-24 February, 1995, Santa Clara, California.  pp.701-711,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2440
2.

国際会議録
国際会議録
2. Advances in process overlay: alignment solutions for future technology nodes
H. Megens ; R. van Haren ; S. Musa ; M. Doytcheva ; S. Lalbahadoersing ; M. van Kemenade ; H. Lee ; P. Hinnen ; F. van Bilsen
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
国際会議録
3. Double patterning for 32nm and below: an update
J. Finders ; M. Dusa ; B. Vleeming ; H. Megens ; B. Hepp
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.692408-1-692408-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924