1.

国際会議録
国際会議録
1. Efficient Calculation of Lifetime Based Direct Turmeling Through Stacked Dielectrics
H. Karner ; A. Gehring ; S. Holzer ; H. Kosina ; S. Selberherr
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics III.  pp.693-704,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(5)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Analysis of Hole Transport in Arbitrarily Strained Germanium
G. Karlowatz ; E. Ungersboeck ; H. Kosina ; W. Wessner ; S. Selberherr
出版情報: SiGe and Ge, materials, processing, and devices.  pp.443-450,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(7)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Low-Field Electron Mobility in Stressed UTB SOI MOSFETs for Different Substrate Orientations
E. Ungersboeck ; V. Sverdlov ; H. Kosina ; S. Selberherr
出版情報: SiGe and Ge, materials, processing, and devices.  pp.45-54,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(7)
4.

国際会議録
国際会議録
4. Numerical Analysis of Gate Stacks
M. Karner ; S. Holzer ; W. Goes ; M. Vasicek ; M. Wagner ; H. Kosina ; S. Selberherr
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics 4.  pp.299-308,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(3)
5.

国際会議録
国際会議録
5. Comparative analysis of pseudo-potential and tight-binding band structure calculations with an analytical two-band k-p model: conduction band of silicon
V. A. Sverdlov ; H. Kosina ; S. Selberherr
出版情報: Micro- and nanoelectronics 2007 : 1-5 October 2007, Zvenigorod, Russia.  pp.70251I-1-70251I-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7025