1.

国際会議録
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1. Double exposure using 193nm negative tone photoresist
R. Kim ; T. Wallow ; J. Kye ; H. J. Levinson ; D. White
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
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2. Evaluating a scatterometry-based focus monitor technique for hyper-NA lithography
C. S. Saravanan ; S. Nirmalgandhi ; O. Kritsun ; A. Acheta ; R. Sandberg ; B. L. Fontaine ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
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3. Evaluating the performance of a 193-nm hyper-NA immersion scanner using scatterometry
O. Kritsun ; B. L. Fontaine ; R. Sandberg ; A. Acheta ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici ; C. Saravanan ; K. Primak ; R. Korlahalli ; S. Nirmalgandhi
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
4.

国際会議録
国際会議録
4. Polarization aberration analysis using Pauli-Zernike representation
N. Yamamoto ; J. Kye ; H. J. Levinson
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
5.

国際会議録
国際会議録
5. Characterization of photo-acid redeposition in 193-nm photoresists
T. Wallow ; M. Plat ; Z. Zhang ; B. MacDonald ; J. Bernard ; J. Romero ; B. L. Fontaine ; H. J. Levinson
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6519
6.

国際会議録
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6. Proposal for determining exposure latitude requirements
H. J. Levinson ; Y. Ma ; M. Koenig ; B. La Fontaine ; R. Seltmann
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.69241J-1-69241J-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
7.

国際会議録
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7. Line-edge roughness in 193-nm resists: lithographic aspects and etch transfer
T. Wallow ; A. Acheta ; Y. Ma ; A. Pawloski ; S. Bell ; B. Ward ; C. Tabery ; B. L. Fontaine ; R. Kim ; S. McGowan ; H. J. Levinson
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6519
8.

国際会議録
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8. The use of EUV lithography to produce demonstration devices
A. La Fontaine ; Y. Deng ; R. Kim ; H. J. Levinson ; S. McGowan
出版情報: Emerging lithographic technologies XII.  1  pp.69210P-1-69210P-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6921
9.

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9. Line edge roughness impact on critical dimension variation
Y. Ma ; H. J. Levinson ; T. Wallow
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518