1.

国際会議録
国際会議録
1. Focus and dose controls, and their application in lithography
H. Ina ; K. Sentoku ; S. Oishi ; T. Miyashita ; T. Matsumoto
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. Focus and dose control for high volume manufacturing
H. Ina ; K. Sentoku
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.71400Q-1-71400Q-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
3.

国際会議録
国際会議録
3. Scatterometry based overlay metrology
T. Matsumoto ; H. Ina ; K. Sentoku ; S. Oishi
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXII.  2  pp.69223L-1-69223L-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6922
4.

国際会議録
国際会議録
4. Focus and dose control to actual process wafer
H. Ina ; K. Sentoku
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXII.  1  pp.692212-1-692212-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6922
5.

国際会議録
国際会議録
5. Critical issues study of nano-imprint tool for semiconductor volume production
H. Ina ; K. Kasumi ; E. Kawakami ; K. Uda
出版情報: Emerging lithographic technologies XI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6517