1.

国際会議録
国際会議録
1. ArF issues of 90-nm-node DRAM device integration
Goo, D.-H. ; Kim, B.-S. ; Park, J.-S. ; Yoon, K.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1296-1303,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Successful application of angular scatterometry to process control in sub-100-nm DRAM device
Kim, J.- ; Kim, S.-J. ; Chin, S.-B. ; Oh, S.-H. ; Goo, D.-H. ; Lee, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T. ; Raymond, C.J. ; Littau, M.E. ; Youn, B.J. ; Sohn, C.-J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.541-549,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375