1.

国際会議録
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1. Tool-to-tool optical proximity effect matching
L. Van Look ; J. Bekaert ; P. De Bisschop ; J. Van de Kerkhove ; G. Vandenberghe
出版情報: Optical Microlithography XXI.  2  pp.69241Q-1-69241Q-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
2.

国際会議録
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2. AIMS-45 image validation of contact hole patterns affer inverse lithography at NA 1.35
E. Hendrickx ; R. Birkner ; M. Kempsell ; A. Tritchkov ; G. Vandenberghe
出版情報: Photomask technology 2008.  1  pp.71221E-1-71221E-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
3.

国際会議録
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3. Experimental proximity matching of ArF scanners
J. Bekaert ; L. Van Look ; P. De Bisschop ; J. Van de Kerkhove ; G. Vandenberghe
出版情報: Lithography Asia 2008.  2  pp.714027-1-714027-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
4.

国際会議録
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4. 60nm half pitch contact layer printing: exploring the limits at 1.35NA lithography
J. Bekaert ; E. Hendrickx ; G. Vandenberghe
出版情報: Optical Microlithography XXI.  2  pp.69243A-1-69243A-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
5.

国際会議録
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5. Lithography and yield sensitivity analysis of SRAM scaling for the 32nm node
A. Nackaerts ; S. Verhaegen ; M. Dusa ; H. Kattouw ; F. van Bilsen ; S. Biesemans ; G. Vandenberghe
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521