1.

国際会議録
国際会議録
1. SEM based data extraction for model calibration
M. Al-Imam ; H. Y. Liao ; J. Schacht ; G. E. Bailey ; T. H. Wu ; C. W. Huang ; S. Y. Huang ; P. R. Tsai ; C. H. Yang
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
国際会議録
2. SEM-contour-based OPC model calibration through the process window
J. Vasek ; O. Menedeva ; D. Levitzky ; O. Lindman ; Y. Nemadi ; G. E. Bailey ; J. L. Sturtevant
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
国際会議録
3. SEM image contouring for OPC model calibration and verification
C. Tabery ; H. Morokuma ; R. Matsuoka ; L. Page ; G. E. Bailey ; I. Kusnadi ; T. Do
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
4.

国際会議録
国際会議録
4. Safe interpolation distance for VT5 resist model
W. Tawfic ; M. Al-Imam ; G. E. Bailey
出版情報: Photomask technology 2007.  3  pp.673054-1-673054-8,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730
5.

国際会議録
国際会議録
5. Feedback flow to improve model-based OPC calibration test patterns
W. A. Tawfic ; M. Al-Imam ; K. Madkour ; R. Fathy ; I. Kusnadi ; G. E. Bailey
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521
6.

国際会議録
国際会議録
6. Double pattern EDA solutions for 32nm HP and beyond
G. E. Bailey ; A. Tritchkov ; J. Park ; L. Hong ; V. Wiaux ; E. Hendrickx ; S. Verhaegen ; P. Xie ; J. Versluijs
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521
7.

国際会議録
国際会議録
7. Circuit-based SEM contour OPC model calibration
K. Patterson ; J. Vasek ; C. M. Yuan ; G. E. Bailey ; I. Kusnadi ; T. Do ; J. L. Sturtevant
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521