1.

国際会議録

国際会議録
Fulks, R. T. ; Russo, C. J. ; Downey, D. F. ; Hanley, P. R. ; Stacy, W. T.
出版情報: Metastable materials formation by ion implantation : proceedings of the Materials Research Society annual meeting, November 1981, Boston Park Plaza Hotel, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.395-400,  1982.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 7
2.

国際会議録

国際会議録
Aebi, V. ; Boyce, J. B. ; Davis, G. A. ; Fulks, R. T. ; Ho, J.
出版情報: Amorphous and heterogeneous silicon thin films : fundamentals to devices - 1999 : symposium held April 5-9, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.623-628,  1999.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 557
3.

国際会議録

国際会議録
Fulks, R. T.
出版情報: Rapid thermal processing of electronic materials : symposium held April 21-23, 1987, Anaheim California, U.S.A..  pp.249-258,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 92
4.

国際会議録

国際会議録
Boyce, J. B. ; Fulks, R. T. ; Ho, J. ; Lu, J. P. ; Mei, P. ; Street, R. A. ; VanSchuylenbergh, K. F. ; Wang, Y.
出版情報: Amorphous and heterogeneous silicon thin films - 2000 : symposium held April 24-28, 2000, San Francisco, California, U.S.A..  pp.A31.4-,  2001.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 609
5.

国際会議録

国際会議録
Apte, R. B. ; Boyce, J. B. ; Fulks, R. T. ; Ho, J. ; Lau, R. ; Lemmi, F. ; Lu, J. P. ; Mei, P. ; Nylen, P. ; Rahn, J. T. ; Ready, S. E. ; Street, R. A. ; vanSchuylenbergh, K. F. ; Weisfleld, R. L.
出版情報: Amorphous and heterogeneous silicon thin films : fundamentals to devices - 1999 : symposium held April 5-9, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.809-814,  1999.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 557